인텔은 최첨단 프로세스 기술의 발전을 가속화하고 있습니다. 최근 인텔은 ASML에서 하나가 아닌 두 대의 High-NA EUV 리소그래피 장비를 구매하려는 계획을 발표했습니다. 이는 초기 계획보다 크게 증가한 수치로, 인텔이 다가오는 14A 프로세스를 위한 철저한 준비를 위해 더 많은 자원을 투입하고 있음을 보여줍니다.

ASML의 High-NA EUV 리소그래피는 장비당 약 3억 7천만 달러라는 높은 가격대에도 불구하고 뛰어난 해상도와 이미징 품질로 '칩 제조의 성배'로 불리고 있습니다. 이 고 NA 장비는 전통적인 낮은 NA EUV에 비해 더 작은 프로세스 기능 크기를 허용하고, 2 nm 노드 이상의 반도체 프로세스를 위한 중요한 기반을 제공합니다. TSMC, 삼성, SK 하이닉스, 인텔 등이 이 기술의 주요 고객으로서 수억 달러 규모의 투자를 진행하고 있습니다.

인텔은 14A 노드를 성공의 중요한 시점으로 간주합니다. 로드맵에 따라 14A는 고 NA EUV 기술의 첫 번째 본격적인 구현이 될 것입니다. 이 노드가 널리 채택되지 않는다면 인텔은 하이엔드 프로세스에서 경쟁 우위를 놓칠 수 있습니다. 따라서 14A는 인텔의 야심찬 첨단 제조 목표에 대한 중요한 평가로, 인텔 Foundry Services(IFS)의 핵심 전략적 요소로 자리매김하였습니다. 업계 전문가들은 인텔의 리소그래피 장비에 대한 투자가 10억에서 20억 달러에 이를 것으로 보고, 이는 14A의 성공에 대한 인텔의 전념을 반영한다고 합니다.

최근의 장비 주문 변화는 이러한 추세를 뒷받침합니다. 보도에 따르면 2027년까지 고 NA EUV 리소그래피 장비의 글로벌 주문량은 8대에서 10대로 증가했으며, 인텔의 주문도 삼성과 SK 하이닉스의 추가 주문과 함께 1대에서 2대로 늘어났습니다. 기존의 낮은 NA EUV 장비의 경우, 인텔은 생산 용량을 3대에서 5대로 확대하고 있습니다. 이러한 전략적 구매는 인텔이 TSMC와 삼성의 리소그래피 역량과의 경쟁에서 14A 노드의 대량 생산 기반을 강화하려는 노력을 분명히 합니다.

삼성은 2025년 말까지 최초의 고 NA EUV를 상용화할 계획이며, TSMC는 더 점진적인 배포를 계획하고 있습니다. 인텔은 14A 프로세스를 통해 고 NA 기술을 확장하면서 첨단 노드 경쟁에서 선두 자리를 선점하는 것을 목표로 하고 있습니다. 그러나 이 과정은 도전으로 가득 차 있습니다. 이전의 10 nm 및 7 nm 프로세스에서의 좌절은 고급 프로세스 분야에서 인텔의 주도권을 약화시켰습니다. 이제 14A의 성공적인 배포는 시장에서의 신뢰 회복을 위한 필수적인 단계로 간주됩니다.

미국이 현지 칩 제조를 강화하기 위한 추진에 따라, 14A와 같은 첨단 노드에서의 인텔의 전략은 생존을 넘어서 글로벌 반도체 공급망에서의 미국의 위치에도 영향을 미칩니다. 18A 기술을 완전하게 습득하고 14A로의 효과적인 전환이 인텔 주조 사업의 경쟁력에 중대한 영향을 미칠 것입니다. 성공적인 납품은 인텔이 하이 NA EUV 기술의 주요 후원자로 부상할 수 있게 하며, 실패할 경우 하이엔드 시장에서의 인텔의 영향력은 다시 한번 줄어들 수 있습니다. 14A 노드를 둘러싼 개발은 인텔이 제조 기술의 최첨단 영역을 재확인할 수 있을지를 보여주는 척도로, 향후 몇 년은 중대한 시간이 될 것입니다.