Intel sta ampliando i propri sforzi nelle tecnologie di processo avanzate. Recentemente, ha annunciato l'intenzione di acquistare non una, ma due macchine di litografia EUV High-NA dalla compagnia ASML, segnando un aumento significativo rispetto al piano iniziale. Questa mossa sottolinea la preparazione dettagliata di Intel per il prossimo processo 14A, mettendo in risalto l'allocazione di risorse ancora maggiore per questa fase cruciale.

La litografia EUV High-NA di ASML è spesso celebrata come il "Santo Graal" nella produzione di chip, sia per il suo costo di 370 milioni di dollari a macchina, sia per i suoi avanzamenti innovativi nella risoluzione e nella qualità delle immagini. Questa apparecchiatura permette una dimensione delle caratteristiche di processo più ridotta rispetto al tradizionale EUV Low-NA, fornendo una base fondamentale per i processi semiconduttori che avanzano verso i nodi a 2 nm e oltre. TSMC, Samsung, SK Hynix e Intel sono tra i principali clienti, investendo centinaia di milioni di dollari ciascuno.

Intel vede il nodo 14A come un punto cruciale per il proprio successo. Come delineato nella loro roadmap, il 14A sarà la prima implementazione su larga scala della tecnologia EUV High-NA. Se questo nodo non dovesse ottenere un'adozione diffusa, Intel potrebbe perdere il suo vantaggio competitivo nei processi di fascia alta. Pertanto, il 14A è stato posizionato come elemento strategico centrale all'interno di Intel Foundry Services (IFS), servendo come valutazione critica degli ambiziosi obiettivi di produzione avanzata di Intel. Gli esperti del settore suggeriscono che le spese di Intel per le apparecchiature di litografia potrebbero variare tra 1 e 2 miliardi di dollari, riflettendo la dedizione dell'azienda verso il successo del 14A.

I recenti cambiamenti nella distribuzione delle attrezzature confermano questa tendenza. I dati mostrano che il volume globale degli ordini per le macchine di litografia EUV High-NA è aumentato da 8 a 10, con gli ordini di Intel passando da 1 a 2 unità, insieme ad altri ordini da Samsung e SK Hynix. Per quanto riguarda l'EUV Low-NA, Intel sta anche aumentando la sua capacità di produzione, passando da 3 unità a 5. Queste acquisizioni strategiche dimostrano chiaramente gli sforzi di Intel per eguagliare le capacità di litografia di TSMC e Samsung, gettando le basi per la produzione di massa del nodo 14A.

Samsung prevede di commercializzare il proprio primo EUV High-NA entro la fine del 2025, mentre TSMC intende adottare un approccio più graduale. Intel ambisce a garantire un vantaggio iniziale nella concorrenza dei nodi avanzati, ampliando la tecnologia High-NA con il processo 14A. Tuttavia, questo percorso è pieno di sfide: battute d'arresto precedenti nei processi a 10 nm e 7 nm hanno indebolito la posizione dominante di Intel nel settore dei processi avanzati. Ora, l'implementazione riuscita del 14A è vista come un passo cruciale per ristabilire la fiducia.

Con la spinta degli Stati Uniti a migliorare la produzione locale di chip, la strategia di Intel nei nodi avanzati come il 14A non impatta solo la sua sopravvivenza, ma anche la posizione degli Stati Uniti nella catena di fornitura globale dei semiconduttori. La padronanza del 18A e la transizione efficiente al 14A influenzeranno in modo determinante la competitività delle operazioni di fonderia di Intel. Un successo potrebbe portare Intel a diventare un attore chiave nella tecnologia EUV High-NA; un insuccesso potrebbe ridurre ancora una volta la sua influenza nel mercato di fascia alta. I prossimi due anni saranno cruciali, mentre gli sviluppi intorno al nodo 14A serviranno come indicatore per determinare se Intel potrà riaffermarsi all'avanguardia nella tecnologia di produzione.